特許
J-GLOBAL ID:200903029064199980
CVD装置及びそのクリーニング方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-103211
公開番号(公開出願番号):特開平10-050685
出願日: 1997年04月21日
公開日(公表日): 1998年02月20日
要約:
【要約】【課題】CVD装置のスループットの改善対策として、精度の良い高速クリーニングが可能なCVD装置及びクリーニング方法を提供すること。【解決手段】CVD装置のチャンバ11内をクリーニングするため、クリーニング用のエッチングガスとしてのHF系ガス供給システム23が設けられている。22はバルブ、12は絶縁体、13はサセプタ及び電極(下部電極14) 、14は電極(上部電極)、15は真空シール部(O-リング)、16は石英窓板、17-a,17-bは原料ガス供給管である。20は排気配管であり、21は例えば自動圧力調整弁である。
請求項(抜粋):
酸化珪素膜を成長させるCVD装置において、HFガスを前記CVD装置に導入する手段を具備し、装置内部に付着したSiとOを主成分とする堆積物をクリーニングすることを特徴とするCVD装置。
IPC (4件):
H01L 21/31
, C23C 16/44
, H01L 21/3065
, H01L 21/304 341
FI (4件):
H01L 21/31 B
, C23C 16/44 J
, H01L 21/304 341 Z
, H01L 21/302 N
引用特許:
出願人引用 (8件)
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成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-142715
出願人:新日本製鐵株式会社
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特開平1-286424
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特開平3-094059
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審査官引用 (8件)
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成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-142715
出願人:新日本製鐵株式会社
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特開平1-286424
-
特開平3-094059
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