特許
J-GLOBAL ID：200903029110711445
高パワー短光パルス発生方法及び高パワー短光パルス発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-232123
公開番号（公開出願番号）：特開2007-110089
出願日： 2006年08月29日
公開日（公表日）： 2007年04月26日
要約：
【課題】CPAにおける位相歪みを補正して短パルス化を図る高パワー短光パルス発生方法及び装置を提供すること。【解決手段】チャープ光パルスを出射するチャープ光パルス光源1と、該チャープ光パルス光源1から出射される該チャープ光パルスを増幅して増幅されたチャープ光パルスを出射する増幅器2と、該増幅器2から出射される該チャープ光パルスを圧縮して圧縮された短光パルスを出射する圧縮器3と、該圧縮器3で圧縮される前及び或いは後の光パルスの位相歪み補正する位相歪み補正手段4と、を有し、前記位相歪み補正手段4は、前記光パルスの時間幅が短くなるように位相歪みを補正することを特徴とする高パワー短光パルス発生装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
チャープ光パルスを増幅する増幅ステップと、
該増幅ステップで増幅されたチャープ光パルスを圧縮する圧縮ステップと、
該圧縮ステップで圧縮される前及び或いは後の光パルスの位相歪みを補正する補正ステップと、を有し、
前記補正ステップは、前記光パルスの時間幅が短くなるように位相歪みを補正することを特徴とする高パワー短光パルス発生方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
5F172AE13
, 5F172AF03
, 5F172AM08
, 5F172DD03
, 5F172NN14
, 5F172NN17
, 5F172NR03
, 5F172NR28
, 5F172ZA04
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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