特許
J-GLOBAL ID:200903034241325820

X線発生方法およびX線発生装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 関 正治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-073364
公開番号(公開出願番号):特開2003-272892
出願日: 2002年03月15日
公開日(公表日): 2003年09月26日
要約:
【要約】【課題】 超短光パルスレーザなどをターゲットに照射してX線を発生させる装置において、X線の強度、特に必要とする特定波長のX線強度を選択的に制御するようにパルスレーザを調整する機構を備えたX線発生装置を提供する。【解決手段】 X線分光器10によりX線強度特性を測定し、特定波長のX線強度の測定結果を制御装置14にフィードバックして、空間位相分布調整機構3により光伝送路中で光軸に垂直な方向に広がったレーザ光束の部分毎に実効的な光路長を変化させることにより、ターゲット7上の集光位置におけるレーザビームの時間波形を制御して、特定波長のX線強度が適正なものとなるようにする。
請求項(抜粋):
レーザビームをターゲットに集光照射してX線を発生させるX線発生装置において、スペクトルがレーザビームの伝送路中で光軸に垂直な方向に広がりフーリエ面を形成する光束の部分毎に実効的な光路長を変化させて空間位相分布を調整して前記ターゲットに集光した位置における該レーザビームのパルス時間波形を所定のパターンに整形し、前記調整後のレーザビームを収束してターゲットに集光する方法であって、発生するX線の強度特性を測定し、該測定結果に基づいてX線強度が適正なものとなるように該レーザビームのパルス時間波形を調整することを特徴とするX線発生方法。
IPC (7件):
H05G 2/00 ,  G02B 26/06 ,  G02B 26/08 ,  G21K 5/02 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/00 ,  H05H 1/24
FI (7件):
G02B 26/06 ,  G02B 26/08 J ,  G21K 5/02 X ,  H01S 3/00 Z ,  H05H 1/24 ,  H05G 1/00 K ,  H01L 21/30 531 S
Fターム (23件):
2H041AA23 ,  2H041AB12 ,  2H041AB38 ,  2H041AC08 ,  2H041AZ05 ,  4C092AA06 ,  4C092AA17 ,  4C092AB22 ,  4C092AC09 ,  4C092AC20 ,  4C092CC03 ,  4C092CD10 ,  4C092CE20 ,  4C092CF02 ,  4C092CF47 ,  5F046GC05 ,  5F072HH07 ,  5F072JJ02 ,  5F072KK05 ,  5F072KK07 ,  5F072KK15 ,  5F072RR07 ,  5F072SS08
引用特許:
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る