特許
J-GLOBAL ID：200903029191140277
フォトマスクおよび転写方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-336540
公開番号（公開出願番号）：特開2008-151821
出願日： 2006年12月14日
公開日（公表日）： 2008年07月03日
要約：
【課題】低コストで、アライメントマークの視認性が高く、アライメントマークの転写がされないフォトマスクを提供すること。【解決手段】フォトマスク1は、非透過領域11と透過領域13を有するアライメントマーク3を有する。このフォトマスク1を用いて、レジスト25を塗布した被転写物27を露光させる。アライメントマーク3の透過領域13-1、13-2を透過した光は、非透過領域11-1と接する部分、即ちレジスト107上のエリア15の部分も露光する。即ち透過領域13-1を透過した光と、透過領域13-2を透過した光が互いに干渉し合って、エリア15の露光に十分な量の光を得ることができる。レジスト25上の他のエリアも同様に露光される。その結果、レジスト上にはアライメントマーク3が転写されない。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板上にアライメントマークが形成されたフォトマスクであって、
前記アライメントマークは、
光を透過しない非透過領域と、
光を透過する透過領域と、を有し、
前記非透過領域は線状のパターンであり、
前記アライメントマークは、
前記非透過領域と、線状の前記透過領域とが交互に配置されたものであることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 N
, H01L21/30 502P
出願人引用 (1件)
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フオトマスク
公報種別：公開公報
出願番号：特願平3-183909
出願人：株式会社ニコン
審査官引用 (5件)
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リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-366657
出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
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特開平3-278513
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投影露光装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-310000
出願人：株式会社ニコン
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