特許
J-GLOBAL ID：200903029204656880

化学研磨装置及びガラス基板の製造方法

発明者：
西山 智弘

西山 智弘 について


出願人/特許権者：
西山ステンレスケミカル株式会社

西山ステンレスケミカル株式会社 について


代理人 (1件)： 野中 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-108238
公開番号（公開出願番号）：特開2007-176780
出願日： 2006年04月11日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：
【課題】目詰まりを起こしにくく、ガラス基板に供給される気泡に位置的なバラツキがなく、高品質の化学研磨を実現する化学研磨装置を提供する。【解決手段】フッ酸を含有する研磨液を閉鎖状態で保有する化学研磨槽と、直径0.3mm〜2mm程度の気泡開口HOを所定の間隔で上向きに設けた複数列の中空パイプ2と、複数列の中空パイプ2に空気を連続的に供給して化学研磨槽に気泡を発生させる給気ポンプと、複数列の中空パイプ2の上部で、所定の拡散空間を隔てて複数のガラス基板を垂直姿勢で保持するバスケットとを備える。バスケット単位で実行される化学研磨処理を複数回繰り返した後、沈殿空間に沈殿する反応生成物を排出口から排出する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
フッ酸を含有する研磨液を保有する化学研磨槽に配置され、直径0.3mm〜2mmの気泡開口を所定ピッチで設けた複数列の中空パイプと、前記複数列の中空パイプにガスを連続的に供給して前記化学研磨槽に気泡を発生させる給気部と、前記複数列の中空パイプの上部で、前記開口ピッチに対応して広く確保される拡散空間を隔てて複数のガラス基板を垂直姿勢で保持するバスケットとを備え、 前記バスケット単位で実行される化学研磨処理を複数回繰り返した後、前記複数列の中空パイプを洗浄処理して、閉塞状態の気泡開口が存在しないことを条件に、前記複数列の中空パイプを再使用するようにしている化学研磨装置。
IPC (1件)：
C03C 15/00
FI (1件)：
C03C15/00 C
Fターム (8件)：
2H090JB02 ,  2H090JC01 ,  2H090JD14 ,  4G059AA08 ,  4G059AB19 ,  4G059AC03 ,  4G059BB04 ,  4G059BB14
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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