特許
J-GLOBAL ID:200903029361006660

プロセス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 古谷 馨 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-574491
公開番号(公開出願番号):特表2002-526518
出願日: 1999年09月29日
公開日(公表日): 2002年08月20日
要約:
【要約】酢酸エチル、エタノール及び水を含む供給原料から実質上純粋な酢酸エチルを回収するためのプロセスが記載されている。これは第一の蒸留条件下に保持された第一の蒸留帯域を使用し、それから酢酸エチル、エタノール及び約10モル%より少ない水を含む第一の留分を蒸留するのに有効である。第一の留分が第一の蒸留帯域から回収され、そして第二の蒸留条件下に保持された第二の蒸留帯域へ供給されるが、これは第一の蒸留帯域の夫れよりもより高い圧力の使用を含み、これはエタノール、水及び少割合の酢酸エチルを含む第二の留分の蒸留に対し有効であり、且つそれは実質上純粋な酢酸エチルのボトム生成物を生じ、且つそれは回収される。第二の留分は第一の蒸留帯域へ戻される。プロセスへの典型的な供給原料は20モル%より少ない水を含み、第一の蒸留帯域へ供給される。典型的には第一の蒸留帯域は4バール(4×105Pa)より少ない圧力で操作され、一方第二の蒸留帯域は好ましくは約9バール(9×105Pa)絶対から約15バール(1.5×106Pa)絶対までの圧力で操作される。
請求項(抜粋):
酢酸エチル、エタノール及び水から成る原料からの実施上純粋な酢酸エチルの回収のためのプロセスであって、(a)第一の蒸留圧力の使用を含む蒸留条件下に保持された第一の蒸留帯域を提供し、この条件は酢酸エチル、エタノール及び水から成る混合物からの酢酸エチル、エタノール及び10モル%より多くない水を含む第一の留分の蒸留のために有効で、且つエタノール及び水を含むエタノールに富むボトム生成物を生じること;(b)第一の蒸留圧力よりも高い第二の蒸留圧力の使用を含む蒸留条件下に保持された第二の蒸留帯域を提供し、この条件は酢酸エチル、エタノール及び水から成る混合物からのエタノール、水及び小割合の酢酸エチルを含む第二の留分の蒸留のために有効で、且つ実質上純粋な酢酸エチルボトム生成物を生じること;(c)第一の蒸留帯域及び第二の蒸留帯域から選ばれた一つの帯域へ酢酸エチル、エタノール及び水から成る原料を供給すること;(d)酢酸エチル、エタノール及び約10モル%より多くない水を含む第一の留分を第一の蒸留帯域から回収すること;(e)第一の留分の材料を第二の蒸留帯域へ供給すること;(f)エタノール及び水から成るエタノールに富むボトム生成物を第一の蒸留帯域から回収すること;(g)実質上純粋な酢酸エチルボトム生成物を第二の蒸留帯域から回収すること;(h)エタノール、水及び小割合の酢酸エチルを含む第二の留分を第二の蒸留帯域から回収すること;及び(i)ステップ(h)の第二の留分の材料を第一の蒸留帯域へリサイクルすること、から成るプロセス。
IPC (2件):
C07C 67/54 ,  C07C 69/14
FI (2件):
C07C 67/54 ,  C07C 69/14
Fターム (9件):
4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AD11 ,  4H006BC50 ,  4H006BC52 ,  4H006BD32 ,  4H006BD40 ,  4H006BD53 ,  4H006BD82
引用特許:
審査官引用 (20件)
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