特許
J-GLOBAL ID：200903061591928826

酢酸エチルの製造用プロセス

発明者：
コーレイ,ステファン,ウィリアム・

コーレイ,ステファン,ウィリアム・ について

, 
ファウセット,クリストファー,リチャード

ファウセット,クリストファー,リチャード について

, 
ラスメル,コリン

ラスメル,コリン について

, 
タック,マイケル,ウィリアム,マーシャル

タック,マイケル,ウィリアム,マーシャル について


出願人/特許権者：
クヴェルナー・プロセス・テクノロジー・リミテッド

クヴェルナー・プロセス・テクノロジー・リミテッド について


代理人 (1件)： 古谷 馨 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-574493
公開番号（公開出願番号）：特表2002-526520
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2002年08月20日
要約：
【要約】エタノールは水素の存在に於て脱水素触媒、例えばシリカ上の銅触媒上で脱水素される。結果として生じる中間反応生成物混合物中に存在する液化可能な生成物は炭素上5%ルテニウムの如き適当な触媒上で選択的に水素化され、そこで選択的に反応性カルボニル含有副生物を対応するアルコール類に水素化する様にする。それらの沸点が酢酸エチルの夫れに近似することにより、さもなくば酢酸エチル生成物の精製に於て困難を惹起するであろうブタン-2-オン及びn-ブチルアルデヒドは、それによって夫々2-ブタノール及びn-ブタノールへ水素化される。二つのステージの蒸留過程が次で水素化された生成物を精製するために使用される。第一の蒸留帯域は典型的には約4バール(4×105Pa)絶対より下で操作され、一方第二の蒸留帯域は典型的には約4バール(4×105Pa)絶対から約25バール(2.5×106Pa)までの圧力で操作される。第一の蒸留帯域で製造された酢酸エチル、エタノール及び水の第一の留分は第二の蒸留帯域で再蒸留され、それにより典型的には約99.8モル%から約99.95モル%の酢酸エチルから成るボトム生成物と塔頂の第二の留分とを製造し、第二の留分は第一の蒸留帯域に於て製造されたものとは異なる組成を有し、そして第一の蒸留帯域へ、好ましくは選択的に水素化された反応生成物混合物の液化可能な生成物のための供給点の上方で、戻される。
請求項（抜粋）：
酢酸エチルの製造のためのプロセスであって、(a)エタノールを含むC2原料を酢酸エチルへと酢酸エチル製造帯域に於て次のものから選択された過程により転化すること:(i)脱水素,(ii)酸化,(iii)アセトアルデヒドとの反応,及び(iv)アセトアルデヒドへの酸化と引続くテイシエンコ反応;(b)酢酸エチル製造帯域から水素及び酢酸エチル、エタノール及び反応性カルボニル基を含む副生物から成る液化可能な生成物から成る中間反応生成物混合物を回収すること;(c)中間反応生成物混合物の液化可能な生成物を選択的水素化触媒と、水素の存在に於て、反応性カルボニル基を含む副生物の選択的水素化に対し有効でそれにより該副生物を対応するアルコールを含む水素化された副生物へと選択的に水素化する選択的水素化条件下に保持された選択的水素化帯域に於て接触させること;(d)選択的水素化帯域から酢酸エチル、エタノール、水素及び水素化された副生物から成る選択的に水素化された反応生成物混合物を回収すること;(e)選択的に水素化された反応生成物混合物の材料を一つ又はより多くの蒸留帯域に於て蒸留して、実質上純粋な酢酸エチルから成る第一の組成物とエタノールと水から成る第二の組成物を製造すること;(f)ステップ(e)の第二の組成物をそれから水を分離する様に処理して、減少された水含量を有するエタノールからなる第三の組成物を生じること;(g)ステップ(f)の第三の組成物を回収すること;から成るプロセス。
IPC (4件)：
C07C 67/44 ,  C07C 67/40 ,  C07C 67/54 ,  C07B 61/00 300
FI (4件)：
C07C 67/44 ,  C07C 67/40 ,  C07C 67/54 ,  C07B 61/00 300
Fターム (34件)：
4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006AC45 ,  4H006AC48 ,  4H006AD11 ,  4H006AD13 ,  4H006AD31 ,  4H006BA05 ,  4H006BA16 ,  4H006BA21 ,  4H006BA23 ,  4H006BA24 ,  4H006BA25 ,  4H006BA26 ,  4H006BA30 ,  4H006BA55 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC18 ,  4H006BC50 ,  4H006BC51 ,  4H006BC52 ,  4H006BD40 ,  4H006BD51 ,  4H006BD53 ,  4H006BD70 ,  4H006BD84 ,  4H006BE20 ,  4H039CA60 ,  4H039CA62 ,  4H039CA66 ,  4H039CB20 ,  4H039CC20 ,  4H039CD10
引用特許：
審査官引用 (16件)
  • 特開平1-272550
  • 特開昭59-044341
  • 特開昭62-012745
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM