特許
J-GLOBAL ID:200903075843455501
アルキルアルカノエートの精製用プロセス
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
古谷 馨 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-574492
公開番号(公開出願番号):特表2002-526519
出願日: 1999年09月29日
公開日(公表日): 2002年08月20日
要約:
【要約】不純な原料からの酢酸エチルの如き、実質上純粋なアルキルアルカノエートの回収のための一つのプロセスが記述される。不純な原料は選択的水素化触媒と水素の存在に於て、反応性カルボニル基を含む不純物の選択的水素化とそれにより該不純物を対応するアルコールへ水素化するのに有効な選択的水素化条件下に維持された選択的水素化帯域に於て、接触させられる。該アルキルアルカノエート及び該対応するアルコールを含む選択的に水素化された反応生成物混合物の選択的水素化帯域からの回収後、これは一つ又はより多くの蒸留帯域に於て蒸留されて、それから回収される実質上純粋なアルキルアルカノエートを製造する様にする。
請求項(抜粋):
12個までの炭素原子を含むアルキルアルカノエートを含有する不純な原料の精製のためのプロセスであって、(a)12個までの炭素原子を含むアルキルアルカノエートを含む不純な原料を提供し、該原料はアルデヒド及びケトンから選ばれ且つ該アルキルアルカノエートと同数の炭素原子を有する少なくとも一つの不純物を更に含んでいること;(b)該不純な原料を選択的水素化触媒と水素の存在下選択的水素化帯域に於て接触させ、該帯域は反応性カルボニル基を含む不純物の選択的水素化のために有効な選択的水素化条件下に維持されて、それにより該不純物を対応するアルコールへ水素化すること;(c)選択的水素化帯域から該アルキルアルカノエート、水素、及び該対応するアルコールを含有する選択的に水素化された反応生成物混合物を回収すること;(d)選択的に水素化された反応生成物混合物の材料を一又はより多くの蒸留帯域に於て、実質上純粋なアルキルアルカノエートをそれから生成する様に蒸留すること;及び(e)該実質上純粋なアルキルアルカノエートを回収すること、から成るプロセス。
IPC (8件):
C07C 67/40
, B01D 3/00
, B01D 3/40
, C07C 67/44
, C07C 67/54
, C07C 69/14
, C07C 69/24
, C07B 61/00 300
FI (8件):
C07C 67/40
, B01D 3/00 A
, B01D 3/40
, C07C 67/44
, C07C 67/54
, C07C 69/14
, C07C 69/24
, C07B 61/00 300
Fターム (47件):
4D076AA16
, 4D076AA22
, 4D076AA24
, 4D076BB03
, 4D076BB10
, 4D076BB23
, 4D076EA02X
, 4D076EA02Y
, 4D076EA03X
, 4D076EA03Y
, 4D076EA14Y
, 4D076EA14Z
, 4D076EA20X
, 4D076EA20Y
, 4D076FA03
, 4D076FA12
, 4D076FA33
, 4D076GA02
, 4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AC48
, 4H006AD11
, 4H006AD13
, 4H006BA05
, 4H006BA16
, 4H006BA21
, 4H006BA23
, 4H006BA24
, 4H006BA25
, 4H006BA26
, 4H006BA30
, 4H006BA55
, 4H006BA60
, 4H006BB15
, 4H006BC10
, 4H006BC11
, 4H006BC18
, 4H006BC31
, 4H006BD10
, 4H006BD33
, 4H006BD52
, 4H006BD82
, 4H006KA35
, 4H006KA36
, 4H039CA66
, 4H039CC20
, 4H039CL00
引用特許:
出願人引用 (11件)
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特公昭40-005614
-
特開平1-272550
-
特開昭59-044341
-
特許第151886号
-
特開昭62-012745
-
プロセス
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-574491
出願人:クヴェルナー・プロセス・テクノロジー・リミテッド
-
酢酸エチルの製造用プロセス
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-574493
出願人:クヴェルナー・プロセス・テクノロジー・リミテッド
-
酢酸エチルの精製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-003237
出願人:昭和電工株式会社
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Cu触媒使用ジメチルカーボネート製造で得られる液状反応生成物の処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-308377
出願人:バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
-
特開昭51-063117
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特公昭44-024576
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審査官引用 (16件)
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特公昭40-005614
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特開平1-272550
-
特開昭59-044341
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特許第151886号
-
特開昭62-012745
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プロセス
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-574491
出願人:クヴェルナー・プロセス・テクノロジー・リミテッド
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酢酸エチルの製造用プロセス
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-574493
出願人:クヴェルナー・プロセス・テクノロジー・リミテッド
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特公昭40-005614
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特開平1-272550
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特開昭59-044341
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特許第151886号
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特開昭62-012745
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酢酸エチルの精製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-003237
出願人:昭和電工株式会社
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Cu触媒使用ジメチルカーボネート製造で得られる液状反応生成物の処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-308377
出願人:バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
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特開昭51-063117
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特公昭44-024576
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