特許
J-GLOBAL ID：200903029475857171
マスク保持装置、露光装置、デバイス製造方法、及びマスク構造体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-045668
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242033
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：
【要約】【課題】 簡単な手法でありながらマスクパターンの転写倍率等の補正を高精度に行なうことができるマスク構造体やマスク保持装置の提供。【解決手段】 マスクパターンが形成された矩形窓が設けられたマスク基板と、該マスク基板を補強するフレームを有するX線、真空紫外線又は電子線等の放射ビームを使用したリソグラフィ用のマスク構造体であって、ここで該フレームは周辺に肉薄部が形成されており、側面から見たとき段差が形成されている。そして、前記矩形窓の対角線を延長した方向から、該フレームの段差部に荷重を与えることによってフレーム及びマスク基板に変形を与えて、荷重量を調整することによってマスクパターンの倍率等を補正する。
請求項（抜粋）：
マスクパターンが形成された矩形窓が設けられたマスク基板と、周辺に段差を持った肉薄部が形成されたフレームを持ったマスク構造体を保持するチャック機構と、該フレームの段差に荷重を与える機構を有することを特徴とするマスク保持装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 531 M
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 503 D
