特許
J-GLOBAL ID：200903029547730325
全反射蛍光X線分析法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-215631
公開番号（公開出願番号）：特開2004-061129
出願日： 2002年07月24日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：
【課題】エネルギー分解能および検出効率ともに優れた、超微量分析を実現することのできる、新しい全反射蛍光X線分析法およびその装置を提供する。【解決手段】全反射条件またはその近傍において試料から放出される蛍光X線(B)の分光を湾曲結晶(1)により行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
全反射条件またはその近傍において試料から放出される蛍光X線の分光を湾曲結晶により行うことを特徴とする全反射蛍光X線分析法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (13件)：
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001BA15
, 2G001CA01
, 2G001DA01
, 2G001EA02
, 2G001EA20
, 2G001GA01
, 2G001KA01
, 2G001PA07
, 2G001RA02
, 2G001RA03
, 2G001SA02
