蛍光X線分析方法及び試料構造の評価方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：眞鍋潔 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-304935
公開番号（公開出願番号）：特開2001-124711
出願日： 1999年10月27日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【課題】蛍光X線分析方法及び試料構造の評価方法に関し、微量元素の評価を高分解能、高感度で行い、また、薄膜構造とともに構成元素も同時に精度良く評価する。【解決手段】分光していない白色X線或いは分光した単色X線のいずれかからなる一次X線1をX線ミラー2によって平行化或いは集光したのち、試料3の表面に全反射臨界角近傍の入射角で入射させ、試料3からの蛍光X線4を波長分散方式で測定する。

請求項（抜粋）：

分光していない白色X線或いは分光した単色X線のいずれかからなる一次X線をX線ミラーによって平行化或いは集光したのち、試料の表面に全反射臨界角近傍の入射角で入射させ、前記試料からの蛍光X線を波長分散方式で測定することを特徴とする蛍光X線分析方法。

Fターム (20件)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001BA15 , 2G001CA01 , 2G001DA01 , 2G001DA02 , 2G001DA06 , 2G001DA10 , 2G001EA02 , 2G001EA09 , 2G001GA01 , 2G001GA13 , 2G001KA01 , 2G001KA11 , 2G001KA20 , 2G001LA20 , 2G001SA02 , 2G001SA10 , 2G001SA29 , 2G001SA30

引用特許：

審査官引用 (10件)

蛍光X線分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-237506 出願人：富士通株式会社
半導体評価装置及びその評価方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-189205 出願人：株式会社東芝
全反射X線分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-000012 出願人：株式会社日立製作所

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