特許
J-GLOBAL ID：200903029548052975

液滴形成基板の製造方法及び液滴形成基板の製造装置

発明者：
宮崎 理絵

宮崎 理絵 について

, 
小枝 周史

小枝 周史 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  田中 克郎 ,  大賀 眞司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-230754
公開番号（公開出願番号）：特開2008-051766
出願日： 2006年08月28日
公開日（公表日）： 2008年03月06日
要約：
【課題】スポットサイズのばらつきを低減させることが可能な液滴形成基板の作成技術を提供する。【解決手段】液体を収容した分注容器の底部に設けられた吐出口の先端と被吐出対象体のスポット形成部位との垂直方向の距離が吐出口に保持することが可能な液塊の落下方向の長さ以下の所定ギャップとなるように分注容器の位置を設定し、液体を加圧して吐出口に液塊を形成し、当該液塊を基板に接するまで成長させ、液塊が被吐出対象体のスポット形成部位に接した後、液体の加圧を停止し、吐出口と被吐出対象体との間に液塊を保持した状態で液体の移動が停止するまで分注容器を被吐出対象体上で静置し、その後、分注容器を液塊から離間させ、被吐出対象体上にスポットを形成する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
底部に複数の吐出口を有して液体を収容する分注容器と液滴が供給されるべきスポット形成部位を複数備えた被吐出対象体とを上下に配置する過程と、 前記吐出口と前記スポット形成部位との距離が、前記吐出口に形成される液塊を保持する保持限界長さを越えない範囲の所定ギャップとなるように、前記分注容器と前記被吐出対象体との相対的な位置を設定する過程と、 前記液体を加圧して前記吐出口に前記液塊を生じさせ、前記液塊が前記被吐出対象体の前記スポット形成部位にそれぞれ接するまで前記液塊を成長させる過程と、 前記液塊をそれぞれ前記吐出口と前記スポット形成領域との間に暫時保持する過程と、 前記分注容器を前記被吐出対象体から離間させ、前記液塊を前記スポット形成領域上にそれぞれ移すことで前記液滴とする過程と、 を含む液滴形成基板の製造方法。
IPC (3件)：
G01N 35/10 ,  G01N 35/02 ,  G01N 37/00
FI (3件)：
G01N35/06 J ,  G01N35/02 F ,  G01N37/00 102
Fターム (4件)：
2G058CC11 ,  2G058EA11 ,  2G058EA14 ,  2G058ED19
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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