リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 岩本行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-020587
公開番号（公開出願番号）：特開2005-217414
出願日： 2005年01月28日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

【課題】露光フィールドよりも大きいパターンを結像することの可能な、より単純なリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置が、少なくとも2つの位置でマスクに対応するようにされたマスクテーブルを具備することにより、初めに第一位置にあるマスクにて露光を実行し、次に第二位置にあるマスクにて第二露光を実行することによって、露光フィールドよりも大きいパターン領域を有するマスクを結像することが可能となる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

放射線のビームを供給するように構成された照明システムと、ビームにパターンを与えるように構成されたマスクを保持するように構成されたマスクテーブルであって、第一方向に移動される少なくとも2つの位置で該マスクを受け取るようにされていることにより、マスクがそれら位置の異なる1つの位置にあるとき、マスクのパターンの異なる部分を露光フィールドに持ち込むことの可能な該マスクテーブルと、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板の目標部分にパターン化ビームを投影するように構成された投影システムとから成るリソグラフィ装置であって、該投影システムの該露光フィールドは少なくとも第一方向において該マスクよりも小さいことを特徴とするリソグラフィ装置。

IPC (1件)：

H01L21/027

FI (3件)：

H01L21/30 515F , H01L21/30 518 , H01L21/30 515D

Fターム (6件)：

5F046BA05 , 5F046CB17 , 5F046CC02 , 5F046CC09 , 5F046CC13 , 5F046DA07

引用特許：

審査官引用 (6件)

露光装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-115432 出願人：キヤノン株式会社
特開昭63-107023
特開平4-162670

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