特許
J-GLOBAL ID：200903030006517147
リソグラフィー用現像前処理剤、それを用いたパターン形成方法及びパターン形成材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
阿形 明
, 水口 崇敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-341174
公開番号（公開出願番号）：特開2006-154004
出願日： 2004年11月25日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：
【課題】 レジスト組成物自体の組成を変えることなく、しかも使用することによって得られるレジストパターンの品質低下を伴わずに、効率よくディフェクトを減少させうる新規なリソグラフィー用現像前処理剤を提供する。【解決手段】 分子構造中に窒素原子を有する水溶性若しくはアルカリ可溶性ポリマーの溶液からなるリソグラフィー用現像前処理剤とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
分子構造中に窒素原子を有する水溶性若しくはアルカリ可溶性ポリマーの溶液からなるリソグラフィー用現像前処理剤。
IPC (3件)：
G03F 7/38
, G03F 7/40
, H01L 21/027
G03F7/38 511
, G03F7/40 511
, H01L21/30 569Z
2H096AA25
, 2H096BA09
, 2H096FA01
, 2H096FA05
, 2H096FA10
, 2H096HA05
, 5F046LA03
, 5F046LA14
, 5F046LA19
