レジスト表面疎水化用樹脂、その製造方法及び該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-066747
公開番号（公開出願番号）：特開2009-197207
出願日： 2008年03月14日
公開日（公表日）： 2009年09月03日
要約：

【課題】液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、塗布欠陥、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供することである。【解決手段】表面に偏在化してレジスト膜の表面を疎水化する、レジスト組成物に添加する樹脂であって、ゲルパーミッションクロマトグラフィー(GPC)により測定される分子量分布において、分子量3万以上の高分子量成分のピーク面積が、全体のピーク面積に対して0.1%以下であることを特徴とする樹脂その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

表面に偏在化してレジスト膜の表面を疎水化する、レジスト組成物に添加する樹脂であって、ゲルパーミッションクロマトグラフィー(GPC)により測定される分子量分布において、分子量3万以上の高分子量成分のピーク面積が、全体のピーク面積に対して0.1%以下であることを特徴とする樹脂。

IPC (7件)：

C08F 20/24 , G03F 7/039 , G03F 7/023 , C08F 2/04 , C08F 2/38 , C08F 6/06 , H01L 21/027

FI (8件)：

C08F20/24 , G03F7/039 601 , G03F7/023 , C08F2/04 , C08F2/38 , C08F6/06 , H01L21/30 502R , H01L21/30 515D

Fターム (68件)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB34 , 2H025CC20 , 4J011BB01 , 4J011BB02 , 4J011BB06 , 4J011BB09 , 4J011BB12 , 4J011HA03 , 4J011HB02 , 4J011HB06 , 4J011HB14 , 4J011HB22 , 4J011NA18 , 4J011NA25 , 4J011NB01 , 4J011NB04 , 4J100AB02Q , 4J100AB04Q , 4J100AL03Q , 4J100AL04Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL24Q , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA12Q , 4J100BA14R , 4J100BA15R , 4J100BA18P , 4J100BA59Q , 4J100BA72P , 4J100BA72Q , 4J100BA81P , 4J100BB11P , 4J100BB11Q , 4J100BB17P , 4J100BB18P , 4J100BB18Q , 4J100BC04P , 4J100BC04Q , 4J100BC07Q , 4J100BC12Q , 4J100BC43P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100FA03 , 4J100FA04 , 4J100FA19 , 4J100FA28 , 4J100JA37 , 4J100JA38 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (5件)

液浸型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-121757 出願人：株式会社ニコン
国際公開第04/068242号パンフレット
レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-052032 出願人：東京応化工業株式会社

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審査官引用 (1件)

親水性硬化樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-352085 出願人：日本油脂株式会社

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