特許
J-GLOBAL ID：200903034003269717

液浸リソグラフィーのための組成物および方法

発明者：
ダヤン・ワン

ダヤン・ワン について


出願人/特許権者：
ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. について


代理人 (2件)： 千田 稔 ,  橋本 幸治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-124957
公開番号（公開出願番号）：特開2006-309245
出願日： 2006年04月28日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：
【課題】液浸リソグラフィーに有用な新規フォトレジスト組成物の提供。【解決手段】本発明の好ましいフォトレジスト組成物は、レジストの樹脂成分と実質的に非混和性である1以上の物質を含む。本発明のさらに好ましいフォトレジスト組成物は、1)Si置換、2)フッ素置換;3)超分岐ポリマー;および/または4)ポリマー粒子を含む。本発明の特に好ましいフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中のレジスト層と接触する液浸液中への、レジスト物質の滲出を低下させることができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)(i)1以上の樹脂、 (ii)光活性成分、および (iii)該1以上の樹脂と実質的に非混和性である1以上の物質 を含むフォトレジスト組成物を、基体上に適用すること;並びに (b)フォトレジスト組成物を活性化する放射線にフォトレジスト層を液浸露光すること を含む、フォトレジスト組成物を処理する方法。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/075
FI (4件)：
G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/075 521
Fターム (10件)：
2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC08 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 米国特許出願公開第2005/0084794号明細書
審査官引用 (18件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM