特許
J-GLOBAL ID：200903030593955844

加熱装置及び加熱方法

発明者：
飽本 正巳

飽本 正巳 について

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林 伸一

林 伸一 について

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飯田 成昭

飯田 成昭 について

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稲富 弘朗

稲富 弘朗 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  水野 洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-001873
公開番号（公開出願番号）：特開2007-184429
出願日： 2006年01月06日
公開日（公表日）： 2007年07月19日
要約：
【課題】冷却プレートと熱板とを備えた加熱装置において、気体により基板を冷却プレート及び熱板から浮上させて、基板を水平方向に移動させることにより、冷却プレートと熱板との間で基板を移動させ、加熱装置の薄型化を図ること。【解決手段】加熱装置2では、冷却プレート3及び熱板6にウエハWの移動路に沿って、ウエハWの移動路の冷却プレート3側に向けて上方斜めに基板浮上用の気体を吐出する吐出孔3a,6aを形成し、前記吐出孔3a,6aからの気体の吐出によりウエハWが移動しようとする押圧力に抗して、押圧部材51によりウエハWの移動時の後方側を押圧して、気体の吐出方向とは反対側である熱板6側にウエハWを移動させ、また前記吐出孔3a,6aからの気体の吐出によりウエハWの移動時の前方側が押圧部材51を押圧する状態で、当該押圧部材51を気体の吐出方向と同じ向きである冷却プレート3側へ移動させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を加熱するための熱板と、基板を冷却するための冷却プレートとを備え、前記熱板と冷却プレートとの間で基板が移動する加熱装置において、 処理容器内に設けられ、基板を加熱処理するための、一方側が基板を搬入出するために開口する扁平な加熱室と、 前記加熱室の内部に設けられた熱板と、 前記処理容器内に前記加熱室の開口側に隣接するように設けられ、熱板で加熱された基板を冷却するための冷却プレートと、 前記冷却プレート及び熱板に基板の移動路に沿って設けられ、基板の移動路の一端側または他端側に向けて上方斜めに基板浮上用の気体を吐出する吐出孔と、 前記気体の吐出により浮上した基板の移動時における前方側または後方側を押圧するための押圧部材と、 前記吐出孔からの気体の吐出により基板が移動しようとする押圧力に抗して押圧部材により基板を押圧して気体の吐出方向とは反対側に基板を移動させ、また前記吐出孔からの気体の吐出により基板が押圧部材を押圧する状態で当該押圧部材を気体の吐出方向と同じ向きに移動させるように、前記押圧部材を移動させる駆動機構と、を備えたことを特徴とする加熱装置。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 567
Fターム (3件)：
5F046KA04 ,  5F046KA07 ,  5F046KA10
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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