ポジ型レジスト組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阿形明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-037308
公開番号（公開出願番号）：特開平8-234420
出願日： 1995年02月24日
公開日（公表日）： 1996年09月13日
要約：

【要約】【構成】 γ-ブチロラクトン溶媒中、酸性触媒の存在下でフェノール類とアルデヒド類とを反応させて得た反応生成物から分取した重量平均分子量2,000〜15,000の範囲のアルカリ可溶性ノボラック樹脂と、キノンジアジド基含有化合物とを含む実質上スカム発生のないポジ型レジスト組成物である。【効果】耐熱性及び解像性に優れ、かつ実質上スカムの発生がなく、特に微細加工を必要とする半導体素子製造分野において好適に用いられる。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂とキノンジアジド基含有化合物とを含むポジ型レジスト組成物において、上記アルカリ可溶性ノボラック樹脂が、γ-ブチロラクトン溶媒中、酸性触媒の存在下でフェノール類とアルデヒド類とを反応させて得た反応生成物から分取した重量平均分子量2,000〜15,000の範囲のアルカリ可溶性ノボラック樹脂である実質上スカム発生のないポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/022 , H01L 21/027 , C08L 61/06 LMR

FI (3件)：

G03F 7/022 , C08L 61/06 LMR , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平1-177032
特開平2-282745
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-048438 出願人：住友化学工業株式会社

全件表示

前のページに戻る