X線撮像装置及び撮像方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小川勝男 , 田中恭助 , 佐々木孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-398781
公開番号（公開出願番号）：特開2005-152500
出願日： 2003年11月28日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

【課題】従来の吸収及び位相コントラストX線撮像装置では測定が難しかった密度変化の大きい部位と小さい部位が混在した試料を高感度に観察する。【解決手段】試料によって生じた干渉ビームの振幅の変化、位相の変化、及び振幅と位相の変化の合成値をコントラストとして透過像及び断面像を形成する。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

入射X線ビームを第1及び第2X線ビームに分割する分割素子と、分割された第1及び第2X線ビームを反射する反射素子と、反射された第1及び第2X線ビームを結合する結合素子から構成されるX線干渉計と、上記第1及び第2X線ビームのうち任意のビームの光路内に試料を設置する手段と、上記第1及び第2X線ビームのうち任意のビームの光路内に位相シフタを設置する手段と、上記X線干渉計から出射した干渉X線ビームを検出する検出器と、上記検出器の出力に基づいて上記試料によって生じた干渉X線ビームの振幅の変化を表す像を得る処理部から構成されるX線撮像装置。

IPC (4件)：

A61B6/00 , G01N23/04 , G01T1/00 , G21K1/06

FI (4件)：

A61B6/00 330Z , G01N23/04 , G01T1/00 B , G21K1/06 M

Fターム (16件)：

2G001AA01 , 2G001BA11 , 2G001BA18 , 2G001CA01 , 2G001GA01 , 2G001GA03 , 2G001HA01 , 2G001HA07 , 2G001HA09 , 2G001HA13 , 2G001KA01 , 2G001LA01 , 4C093AA30 , 4C093CA04 , 4C093CA34 , 4C093DA03

引用特許：

出願人引用 (2件)

位相コントラストX線撮像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-067554 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-348262号公報

審査官引用 (9件)

X線撮像法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-284444 出願人：株式会社日立製作所
X線撮像法およびX線撮像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-334339 出願人：株式会社日立製作所
特開昭61-180129

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