ポジ型レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西川繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-235354
公開番号（公開出願番号）：特開平6-059447
出願日： 1992年08月11日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：

【要約】【目的】感度、残膜率、解像度などの諸特性のバランスに優れ、特に1μm以下の微細加工において露光量に対する寸法変化が小さく、かつ、パターン形状の優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【構成】アルカリ可溶性フェノール樹脂、特定のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルである感光剤、及び下記一般式〔IV〕で示されるヒドロキシ化合物)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】R19〜R22:水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、またはフェニル置換アルコキシ基であって、それぞれ同一または異なっていてもよい。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性フェノール樹脂(a)、下記一般式、〔I〕〔II〕及び〔III〕で示される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルである感光剤(b)、及び下記一般式〔IV〕で示されるヒドロキシ化合物(c)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】R1〜R4:水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、または炭素原子数1〜4のアルコキシ基であって、それぞれ同一または異なっていてもよい。R5:水素原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、またはアリール基である。ただし、OH基の総数は、3〜4個である。【化2】R6〜R9:水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数2〜5アルケニル基、または炭素原子数1〜4のアルコキシ基であって、それぞれ同一または異なっていてもよい。R10:水素原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、またはアリール基である。ただし、OH基の総数は5個であり、かつ、R6〜R9の少なくとも1個は水素原子以外の置換基である。【化3】R11〜R18:水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、または炭素原子数1〜4のアルコキシ基であって、それぞれ同一または異なっていてもよい。A:単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリーレン基、または置換アリーレン基である。【化4】R19〜R22:水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、またはフェニル置換アルコキシ基であって、それぞれ同一または異なっていてもよい。

IPC (2件)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平4-086665
特開平3-158856
特開平3-144454

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