特許
J-GLOBAL ID：200903030786025240

照明源分布の調節による可能な最大プロセス・ウィンドウを用いたマスクの印刷

発明者：
アラン・エドワード・ローゼンブルス

アラン・エドワード・ローゼンブルス について


出願人/特許権者：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション について


代理人 (3件)： 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-349370
公開番号（公開出願番号）：特開2005-167253
出願日： 2004年12月02日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】様々な入射ビームの強度により、可能な最大の統合プロセス・ウィンドウが得られるように、異なる方向から光でリソグラフィ・マスクを照明する方法を提供すること。【解決手段】プロセス・ウィンドウは、印刷される形状についての許容可能な範囲の形で定義する。例えば、プロセス・ウィンドウの境界は、露光不足条件および露光過剰条件に対応する形状制限によって定義し得る。様々な制約を適用することによって、露光過剰公差位置で許容し得る可能な最大強度を示す強度パラメータを課す。様々な制約を適用することによって、露光不足公差位置で許容し得る可能な最小強度を示す別の組の強度パラメータを課す。いくつかの異なる焦点範囲ごとに、それぞれの種類の1つのパラメータを定義する。上記その他の制約を含む線形プログラムから最適な照明源強度を決定する。決定された照明源強度により、印刷される形状が許容範囲の形状から外れることなく、許容し得るドーズ量および焦点の変動の統合範囲が最大になる。【選択図】図20
請求項（抜粋）：
マスクの照明方法であって、 複数の入射光ビームの強度により、形状を規定する許容範囲の形で定義される可能な最大の統合プロセス・ウィンドウが得られるように、光源により異なる方向からリソグラフィ・マスクを照明するステップであって、少なくとも1組の制約を適用することによって、露光過剰公差位置で許容し得る可能な最大強度を示す第1組の強度パラメータおよび露光不足公差位置で許容し得る可能な最小強度を示す第2組の強度パラメータを課すステップと、 複数の異なる焦点範囲ごとに、前記第1と前記第2の各組について少なくとも1つのパラメータを定義するステップと、 線形プログラムおよび少なくとも前記1組の制約を含む制約を用いて、最適な照明源強度を決定するステップとを含む照明ステップを含み、前記決定された最適な照明源強度により、印刷される形状が前記許容範囲から外れることなく、ドーズ量および焦点の変動の統合範囲が最大になる、方法。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2件)：
H01L21/30 516D ,  G03F7/20 521
Fターム (3件)：
5F046CB17 ,  5F046DA02 ,  5F046DA14
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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