特許
J-GLOBAL ID：200903072384125871

半導体デバイスの製造システム及び製造方法

発明者：
松本 俊一

松本 俊一 について

, 
吉武 康裕

吉武 康裕 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 鈴木 市郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-035795
公開番号（公開出願番号）：特開2003-243280
出願日： 2002年02月13日
公開日（公表日）： 2003年08月29日
要約：
【要約】【課題】 半導体デバイス製造における露光層の回路パターンの転写工程において、条件出し作業を省き、TATの短縮,露光装置の稼動効率向上を図る。【解決手段】 半導体デバイスの各露光層のパターン条件データをデータベース111に、この半導体デバイスの製造仕様データをデータベース121に、露光装置141,142の集光レンズ収差データをデータベース105に夫々保存する。露光条件算出ホスト100は、データベース111,121,105から夫々のデータを読み出し、これらデータによる条件の基に、半導体デバイスの露光層に露光装置141,142でマスクを介して露光して形成される回路パターンの形状を露光パターン計算手段102で算出する。そして、この計算結果を基に、使用する露光装置141,142の露光条件を露光条件算出手段で算出し、露光装置141,142がこの露光条件で露光層を露光するようにする。
請求項（抜粋）：
露光装置を備え、基板上に形成される露光層毎に該露光装置でマスクを介して露光し、該露光層夫々に所定の回路パターンを形成して半導体デバイスを製造するシステムにおいて、該基板上に形成される露光層毎に、回路パターンの形成に必要な該露光層に関するデータを保持する第1のデータ保持手段と、該露光層に回路パターンを形成するに必要な該露光装置に関するデータを保持する第2のデータ保持手段と、該露光層毎に、該第1,第2のデータ保持手段から該当するデータを読み取り、回路パターンの形成に用いる該露光装置の露光条件を算出する算出手段とを備え、該露光装置は、算出された該露光条件の基に、該当する該露光層のマスクを介した露光を行ない、該露光層に該マスクによる所定の回路パターンを転写することを特徴とする半導体デバイスの製造システム。
FI (3件)：
H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 516 D ,  H01L 21/30 516 Z
Fターム (6件)：
5F046AA28 ,  5F046DA02 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DA29 ,  5F046DD06
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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