特許
J-GLOBAL ID：200903030806480900
シリカのシラノール基含有率が低いシリカ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-265908
公開番号（公開出願番号）：特開2003-176122
出願日： 2002年09月11日
公開日（公表日）： 2003年06月24日
要約：
【要約】【課題】 BET法(DIN66131および66132)による表面積に対して、nm2あたりのSiOHの密度が0.6より小であるシリル化されたシリカを提供する。【解決手段】 (1)シリル化剤による親水性出発シリカの被覆、(2)親水性シリカとシリル化剤との反応、および(3)シリル化剤および副反応生成物からの親水性シリカの精製の工程をそれぞれ、専用の容器内で行う。【効果】 該シリカを含有するトナーおよび現像剤は電子写真印刷において有利に使用することができ、直接法による画像転写法においても使用可能であり、またラッカーおよび塗料において耐引掻性の被覆を得るために使用される。
請求項（抜粋）：
BET法(DIN66131および66132)による表面積に対して、nm2あたりのSiOHの密度が0.6より小であるシリル化されたシリカ。
IPC (5件)：
C01B 33/12
, C08K 3/36
, C08L101/00
, G03G 9/08 371
, G03G 9/08 375
C01B 33/12 Z
, C08K 3/36
, C08L101/00
, G03G 9/08 371
, G03G 9/08 375
2H005AA08
, 2H005AB02
, 2H005CA26
, 2H005CB13
, 2H005EA05
, 2H005EA07
, 2H005EA10
, 4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072DD09
, 4G072HH28
, 4G072MM03
, 4G072QQ06
, 4G072QQ09
, 4G072RR12
, 4G072TT01
, 4G072UU09
, 4J002CP031
, 4J002DJ016
, 4J002FA086
, 4J002FB096
, 4J002FD016
出願人引用 (14件)
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高減衰ゴム組成物
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-191944
出願人：住友ゴム工業株式会社
-
特公平7-113783
-
特許第2633130号
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審査官引用 (17件)
-
高減衰ゴム組成物
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-191944
出願人：住友ゴム工業株式会社
-
特公平7-113783
-
特許第2633130号
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