特許
J-GLOBAL ID：200903030824587584

ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法

発明者：
松井 孝幸

松井 孝幸 について


出願人/特許権者：
エルピーダメモリ株式会社

エルピーダメモリ株式会社 について


代理人 (1件)： 稲垣 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-353304
公開番号（公開出願番号）：特開2007-158161
出願日： 2005年12月07日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：
【課題】ウエハのチャージアップを抑制可能な枚葉式のウエハ洗浄装置を提供する。【解決手段】ウエハ洗浄装置10は、ウエハ11を水平に保持するチャック12と、チャック12に保持されたウエハ11に対向するステージ13とを備える。ステージ13の表面には、洗浄液を供給する洗浄液供給孔、リンス液を供給するリンス液供給孔および洗浄後の廃液を排出する廃液排出口24が形成されている。ウエハ11を回転させることなく、ウエハ表面11aとステージ13との間隙に洗浄液またはリンス液を滞留させて、洗浄またはリンスを行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ウエハを水平に保持するウエハ保持部と、該ウエハ保持部に保持されたウエハに対向するステージとを備えるウエハ洗浄装置において、 前記ステージの表面には、洗浄液を供給する洗浄液供給孔、及び、リンス液を供給するリンス液供給孔の少なくとも一方が形成されていることを特徴とするウエハ洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  G02F 1/133
FI (4件)：
H01L21/304 643C ,  H01L21/304 643Z ,  H01L21/304 651M ,  G02F1/1333 500
Fターム (4件)：
2H090HC16 ,  2H090HC18 ,  2H090JC06 ,  2H090JC19
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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