特許
J-GLOBAL ID:200903030836345764
薄膜堆積用分子線源セル
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
北條 和由
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-219172
公開番号(公開出願番号):特開2003-034591
出願日: 2001年07月19日
公開日(公表日): 2003年02月07日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 坩堝10、20の中での温度勾配を小さくし、蒸発材料を効率よく蒸発して蒸発分子を発生することができるようにする。【解決手段】 薄膜堆積用分子線源セルは、坩堝10、20の蒸発材料a、bを収納するボトムに近い側の蒸発材料収納部11、21が円筒形であり、放出口14、24に近い先端側部分に括れ部12、22を有し、この括れ部12、22から放出口14、24までの部分が次第に内径が増大するテーパを有するテーパガイド部13、23となっている。さらに、ヒータ15、16、25、26が、蒸発材料収納部11、21を加熱する第一のヒータ15、25と、括れ部12、22からテーパガイド部13、23にわたる部分を加熱する第二のヒータ16、26とに分かれている。
請求項(抜粋):
坩堝(10)、(20)内に収納した蒸発材料(a)、(b)を坩堝(10)、(20)の周囲に配置したヒータ(15)、(16)、(25)、(26)で加熱して蒸発し、その分子を放出口(14)、(24)から放出し、基板(33)の成膜面上に堆積させて薄膜を形成する薄膜堆積用分子線源セルにおいて、坩堝(10)、(20)の蒸発材料(a)、(b)を収納するボトムに近い側の蒸発材料収納部(11)、(21)が円筒形であり、放出口(14)、(24)に近い先端側部分に括れ部(12)、(22)を有し、この括れ部(12)、(22)から放出口(14)、(24)までの部分が次第に内径が増大するテーパを有するテーパガイド部(13)、(23)となっており、ヒータ(15)、(16)、(25)、(26)が、蒸発材料収納部(11)、(21)を加熱する第一のヒータ(15)、(25)と、括れ部(12)、(22)からテーパガイド部(13)、(23)にわたる部分を加熱する第二のヒータ(16)、(26)とに分かれていることを特徴とする薄膜堆積用分子線源セル。
IPC (2件):
FI (2件):
C30B 23/08 M
, C30B 29/54
Fターム (6件):
4G077AA03
, 4G077BF04
, 4G077DA07
, 4G077EG01
, 4G077HA02
, 4G077SC12
引用特許:
出願人引用 (10件)
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単体るつぼ
公報種別:公表公報
出願番号:特願平8-533541
出願人:コーラスコーポレーション
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特開平2-254713
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不純物ドーピング法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-237916
出願人:日本電気株式会社
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特開平2-204391
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特開昭61-132589
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分子線源
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-167413
出願人:富士通株式会社
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特開昭59-064594
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分子線源および分子線エピタキシ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-025445
出願人:シャープ株式会社
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特開平1-153595
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薄膜堆積用分子線セル
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-192261
出願人:株式会社アイメス, 株式会社日本ビーテック, 城戸淳二
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審査官引用 (8件)
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単体るつぼ
公報種別:公表公報
出願番号:特願平8-533541
出願人:コーラスコーポレーション
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特開平2-254713
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不純物ドーピング法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-237916
出願人:日本電気株式会社
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特開平2-204391
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特開昭61-132589
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分子線源
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-167413
出願人:富士通株式会社
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特開昭59-064594
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分子線源および分子線エピタキシ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-025445
出願人:シャープ株式会社
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