特許
J-GLOBAL ID：200903031100232942
検査方法およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 白江 克則
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-408154
公開番号（公開出願番号）：特開2004-200680
出願日： 2003年10月31日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】リトグラフ技術を使用してデバイスの製造時に、パターンの非対称を測定するインラインの測定方法を提供する。【解決手段】検査方法は、少なくとも多少の対称性を有し、装置における特定の収差に感応するテスト・パターン基板に焼き付け、スキャテロメータを使用してその収差に関する情報を導き出すことで、リトグラフの収差を検出する。テスト構造には二本棒格子が含まれ、これによればコマ収差を示す情報を導き出すために、内側および外側の衝撃係数を再現することができる。これに代えて、六角形配列構造を使用することもでき、この場合にはスキャテロメトリ・データは三波収差を示す点の直径を再現するために使用できる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
リトグラフ装置を使用して、該リトグラフ装置に存在し得る少なくとも1種類の収差に感応し、少なくとも1つの対称性を有するテスト・パターンを基板に焼き付ける段階と、
スキャテロメータを使用して、前記テスト・パターンの反射スペクトルを測定する段階と、
前記反射スペクトルから、前記リトグラフ装置に存在する前記少なくとも1種類の収差の大きさを示す情報を導き出す段階とを含む検査方法。
IPC (5件)：
H01L21/027
, G01M11/02
, G03F7/20
, H01J37/153
, H01J37/305
H01L21/30 516A
, G01M11/02 B
, G03F7/20 521
, H01J37/153 Z
, H01J37/305 B
, H01L21/30 502V
2G086HH06
, 5C033JJ02
, 5C034BB05
, 5C034BB08
, 5C034BB10
, 5F046AA18
, 5F046DB05
, 5F046DB08
, 5F046DB11
, 5F046GA14
