リソグラフィのフォーカスおよび露光を決定する方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-507631
公開番号（公開出願番号）：特表2005-513757
出願日： 2002年06月26日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：

【課題】フォトリソグラフィシステムの1つ以上のプロセスパラメータ設定を決定する方法を提供する。【解決手段】 1つ以上の形状パラメータの第1セットの値を、1つ以上のプロセスパラメータの第1セットの値と相関付けることによって、従属性を生成すること、1つ以上の構造に関連付けられた1つ以上の形状パラメータの第2セットの値を決定すること、および1つ以上の形状パラメータの第2セットを相関付けられた従属性と比較することによって、1つ以上の構造を形成することと関連付けられた1つ以上のプロセスパラメータの第2セットの値を決定することを含む。

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィシステムのプロセスパラメータ設定を決定する方法であって、 1つ以上の形状パラメータの第1セットの値を、1つ以上のプロセスパラメータの第1セットの値と相関付けることによって、従属性を生成すること、 1つ以上の構造に関連付けられた1つ以上の形状パラメータの第2セットの値を決定すること、および 1つ以上の形状パラメータの前記第2セットを前記相関付けられた従属性と比較することによって、1つ以上の構造を形成することと関連付けられた1つ以上のプロセスパラメータの第2セットの値を決定することを含む方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (5件)：

H01L21/30 516D , G03F7/20 521 , H01L21/30 516Z , H01L21/30 502V , H01L21/30 516A

Fターム (7件)：

5F046AA25 , 5F046BA03 , 5F046DA02 , 5F046DA13 , 5F046DA14 , 5F046DD03 , 5F046DD06

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平2-294643
露光装置の制御方法及び半導体製造装置の制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-274702 出願人：株式会社東芝
特開平4-169667

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