特許
J-GLOBAL ID：200903031103314133

磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体、及び磁気記録再生装置

発明者：
新井 良和

新井 良和 について

, 
内田 博

内田 博 について

, 
今井 直行

今井 直行 について

, 
福島 正人

福島 正人 について


出願人/特許権者：
昭和電工株式会社

昭和電工株式会社 について


代理人 (6件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-212911
公開番号（公開出願番号）：特開2009-259370
出願日： 2008年08月21日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：
【課題】表面の平滑性が高く、また、耐環境性の高い、ディスクリート磁気記録媒体やパターンド磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性基板上に少なくとも、記録層、保護膜を有する磁気記録媒体の製造方法において、基板上に連続した記録層を形成する工程、パターニングしたレジスト層を形成する工程、このレジストパターンに基づいて記録層を部分的に除去する工程、記録層および記録層を除去した箇所に活性エネルギー線硬化性官能基を有する有機ケイ素化合物を塗布する工程、有機ケイ素化合物を活性エネルギー線により硬化させる工程、有機ケイ素化合物をエッチングして磁性層を表出させる工程、保護膜を形成する工程をこの順で行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
非磁性基板上に少なくとも、記録層、保護膜を有する磁気記録媒体の製造方法であって、 基板上に連続した記録層を形成する工程、 パターニングしたレジスト層を形成する工程、 このレジストパターンに基づいて記録層を部分的に除去する工程、 記録層および記録層を除去した箇所に活性エネルギー線硬化性官能基を有する有機ケイ素化合物を塗布する工程、 有機ケイ素化合物を活性エネルギー線により硬化させる工程、 有機ケイ素化合物をエッチングして磁性層を表出させる工程、 保護膜を形成する工程をこの順で有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (5件)：
G11B 5/84 ,  G11B 5/855 ,  C08G 59/20 ,  C08F 30/08 ,  C08G 65/22
FI (5件)：
G11B5/84 Z ,  G11B5/855 ,  C08G59/20 ,  C08F30/08 ,  C08G65/22
Fターム (28件)：
4J005AA09 ,  4J005AA11 ,  4J005BA00 ,  4J005BB01 ,  4J036AB01 ,  4J036AB02 ,  4J036AB03 ,  4J036AC21 ,  4J036AJ09 ,  4J036AJ10 ,  4J036AJ21 ,  4J036HA01 ,  4J036JA09 ,  4J100AL08P ,  4J100BA72P ,  4J100BA81P ,  4J100CA01 ,  4J100JA38 ,  5D112AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112AA19 ,  5D112AA20 ,  5D112AA24 ,  5D112BB10 ,  5D112GA00 ,  5D112GA17 ,  5D112GA19 ,  5D112GA20
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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