特許
J-GLOBAL ID：200903040334185440

ナノインプリント用の膜形成組成物およびパターン形成方法

発明者：
坂本 好謙

坂本 好謙 について

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山下 直紀

山下 直紀 について

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石川 清

石川 清 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 正林 真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-262009
公開番号（公開出願番号）：特開2007-072374
出願日： 2005年09月09日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：
【課題】 酸素ガスに対するエッチング耐性に優れるとともに、転写パターンの剥離を防止し、基板上における保持時間についての問題を解消し、転写性にも優れるナノインプリント用の膜形成組成物及び感光性レジスト、ナノ構造体、これらを用いたパターン形成方法、並びにこのパターン形成方法を実現するためのプログラムを提供する。【解決手段】光硬化反応を生じる機能を有する高分子ケイ素化合物を含むナノインプリント用の膜形成組成物。高分子ケイ素化合物は、電磁波に感応して開裂する官能基を有し、電磁波照射によって硬化反応を生じるものであることが好ましく、シロキサン系高分子化合物、シリコンカーバイド系高分子化合物、ポリシラン系高分子化合物、およびシラザン系高分子化合物またはこれらの任意の混合物であることがさらに好ましい。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
光硬化反応を生じる機能を有する高分子ケイ素化合物を含むことを特徴とするナノインプリント用の膜形成組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/075 ,  H01L 21/027 ,  B82B 1/00 ,  B82B 3/00
FI (4件)：
G03F7/075 511 ,  H01L21/30 502D ,  B82B1/00 ,  B82B3/00
Fターム (22件)：
2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AA17 ,  2H025AB14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025BC77 ,  2H025BC78 ,  2H025BC92 ,  2H025BC93 ,  2H025BD23 ,  2H025BD54 ,  2H025BD55 ,  2H025BJ10 ,  2H025CA00 ,  2H025CA48 ,  2H025CC04 ,  2H025FA00 ,  2H025FA30 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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