特許
J-GLOBAL ID：200903031107346994
結像特性の誤差解析方法、及び該方法を使用する投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-357040
公開番号（公開出願番号）：特開平11-186145
出願日： 1997年12月25日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：
【要約】【課題】 投影露光装置の結像特性の誤差の要因を特定する。【解決手段】 走査型露光装置によってウエハ上のショット領域SA上に露光、及び現像によって形成された複数のレジストパターンの線幅を測定し、走査方向(Y方向)に平行に配列されたレジストパターンの線幅の平均値と、非走査方向(X方向)に沿って配列されたレジストパターンの線幅の平均値とをそれぞれ求める。非走査方向に沿って形成された同一種類のパターンの線幅がばらつきを示す場合には、投影光学系による誤差があるとみなし、走査方向に沿って形成されたパターンが所定の傾向を示す場合には、露光量誤差、フォーカス誤差、又は同期誤差があるとみなす。
請求項（抜粋）：
マスクのパターンの像を投影光学系を介して基板上に転写する投影露光装置の結像特性の誤差解析方法において、前記マスクのパターンとして複数種類の異なるパターンを基板上に転写し、該基板上に転写された複数種類の異なるパターンの結像情報をそれぞれ検出し、該検出結果から前記基板上に形成されたパターンの結像誤差の要因を求めることを特徴とする結像特性の誤差解析方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G01M 11/02
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 502 V
, G01M 11/02 A
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 518
