透明石英ガラス体の製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-329528
公開番号（公開出願番号）：特開2005-097008
出願日： 2003年09月22日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】シリカ粉末を原料としたゾルゲル法において大型のゲル体および透明石英ガラス体を歩留良く、かつ、ガラス体内部に含まれる気泡が少ない製造方法を提供する。【解決手段】 (A)レーザー回折散乱法により測定した粒度分布のモード粒径が0.10〜0.20μmで、かつ、比表面積が25〜40m2/gの範囲の球状シリカと水の混合物を分散処理してシリカ濃度が68重量%以上のシリカ分散液を調製する工程、(B)該シリカ分散液のpHを10以上に調整する工程、(C)シリカ分散液を鋳型の中でゲル化させて湿潤ゲル体とする工程、(D)該湿潤ゲル体を乾燥させて乾燥ゲル体とする工程、(E)該乾燥ゲル体を焼成して有機物を除去する工程、(F)有機物を除去した乾燥ゲル体をハロゲン含有ガス中で熱処理して高純度化する工程、(G)さらに高純度化した乾燥ゲル体を焼結する工程、を経ることを特徴とする透明石英ガラス体の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)レーザー回折散乱法により測定した粒度分布のモード粒径が0.10〜0.20μmで、かつ、比表面積が25〜40m2/gの範囲の球状シリカと水の混合物を分散処理してシリカ濃度が68重量%以上のシリカ分散液を調製する工程、(B)該シリカ分散液のpHを10以上に調整する工程、(C)pHを調整したシリカ分散液を鋳型の中でゲル化させて湿潤ゲル体を作製する工程、(D)該湿潤ゲル体を乾燥させて乾燥ゲル体を作製する工程、(E)該乾燥ゲル体を酸化雰囲気中500〜1000°Cの範囲で焼成することによって有機物を除去する工程、(F)有機物を除去した乾燥ゲル体をハロゲン含有ガス中500〜1200°Cの範囲で処理することによって高純度化する工程、(G)さらに高純度化した乾燥ゲル体をヘリウムガス雰囲気もしくは真空中で1200〜1800°Cの温度範囲で焼結する工程、を経ることを特徴とする透明石英ガラス体の製造方法。

IPC (1件)：

C03B20/00

FI (2件)：

C03B20/00 C , C03B20/00 E

Fターム (1件)：

4G014AH00

引用特許：

出願人引用 (7件)

ガラス質シリカ製品の作製
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-201540 出願人：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
製品の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-179741 出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
シリカゲル及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-324586 出願人：株式会社トクヤマ

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