特許
J-GLOBAL ID：200903023194239705
透明石英ガラス体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-346399
公開番号（公開出願番号）：特開2004-161607
出願日： 2003年10月03日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：
【課題】 シリカ粉末を主原料に用いたゾルゲルプロセスによる透明石英ガラス体の製造方法において、ゲル体にクラックや欠けが発生せず、透明石英ガラス体にクラックや気泡が発生せず、歩留まり良く純度の高い透明石英ガラス体を製造する。【解決手段】 比表面積が3〜30m2/gの範囲の球状シリカが68重量%以上である混合物を摩砕機を用いて分散処理してシリカ分散液を調製する工程、該分散液のpHを10以上に調製する工程、該シリカ分散液を鋳型の中でゲル化させて湿潤ゲル体を作製する工程、該湿潤ゲル体を乾燥させて乾燥ゲル体を作製する工程、該乾燥ゲル体を酸化雰囲気中で焼成して有機物を除去する工程、焼成後の該ゲル体をハロゲン含有ガス中で処理して高純度化する工程、さらに該ゲル体を焼結する工程、を経ることを特徴とする透明石英ガラス体の製造方法である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)比表面積が3〜30m2/gの範囲の球状シリカが68重量%以上であるシリカと水の混合物を、摩砕機を用いて分散処理してシリカ分散液を調製する工程、(B)該シリカ分散液のpHを10以上に調整する工程、(C)pHを調整したシリカ分散液を鋳型の中でゲル化させて湿潤ゲル体を作製する工程、(D)該湿潤ゲル体を乾燥させて乾燥ゲル体を作製する工程、(E)該乾燥ゲル体を酸化雰囲気中500〜1000°Cの範囲で焼成することによって有機物を除去する工程、(F)有機物を除去した乾燥ゲル体をハロゲン含有ガス中500〜1200°Cの範囲で処理することによって高純度化する工程、(G)さらに高純度化した乾燥ゲル体をヘリウムガス雰囲気もしくは真空中で1200〜1800°Cの温度範囲で焼結する工程、を経ることを特徴とする透明石英ガラス体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (3件)：
C03B20/00 C
, C03B20/00 D
, C03B20/00 E
出願人引用 (7件)
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ガラス質シリカ製品の作製
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-201540
出願人：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
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製品の製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-179741
出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
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ゾル-ゲルを用いた高保障試験光ファイバの作製
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-040216
出願人：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
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審査官引用 (3件)
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