特許
J-GLOBAL ID：200903031183223249
有機EL素子およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-127473
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335206
出願日： 2003年05月02日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】より高品質な有機EL素子の実現に向けて、透明陰極の電子注入性を改善または保持しながら、透明陰極作製時のダメージを緩和し、かつ酸素または水分による有機EL層の劣化を防止することが可能な保護膜を有する有機EL素子およびその製造方法を提供すること。【解決手段】基板上に、陽極と、少なくとも有機発光層を含む有機EL層と、透明陰極とを順次有し、透明陰極側から光を取り出す有機EL素子であって、有機EL層と透明陰極との間に保護膜として炭素を主成分とする薄膜を設ける。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板上に、陽極と、少なくとも有機発光層を含む有機EL層と、保護膜と、透明陰極とを順次有し、前記透明陰極側から光を取り出す有機EL素子であって、
前記保護膜が、炭素を主成分とする薄膜であることを特徴とする有機EL素子。
IPC (3件)：
H05B33/14
, H05B33/10
, H05B33/22
H05B33/14 A
, H05B33/10
, H05B33/22 A
3K007AB03
, 3K007AB11
, 3K007AB12
, 3K007AB13
, 3K007AB15
, 3K007CB00
, 3K007DB03
, 3K007FA01
