特許
J-GLOBAL ID：200903097626748588

研磨装置及び研磨方法、並びに磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体の製造方法

発明者：
宮本 武美

宮本 武美 について

, 
岩渕 省蔵

岩渕 省蔵 について


出願人/特許権者：
ホーヤ株式会社

ホーヤ株式会社 について


代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-238261
公開番号（公開出願番号）：特開2002-046065
出願日： 2000年08月07日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：
【要約】【課題】 積層ガラス基板と研磨ブラシ又は研磨パッドとの間に研磨液を効果的に供給できる研磨装置及び研磨方法等を提供する。【解決手段】 中心部に円孔を有する円板状のガラス基板1を複数枚重ねた状態の積層ガラス基板10を回転させ、この積層ガラス基板10の外周端面部分に研磨ブラシ4又は研磨パッドを回転接触させ、前記積層ガラス基板10の外周端面部分に研磨液を供給して研磨を行う研磨方法であって、前記複数枚重ねられた全てのガラス基板1の外周端面部分と研磨ブラシ4又は研磨パッドとの間に常時充分な量の研磨液を介在させた状態で研磨を行う。
請求項（抜粋）：
中心部に円孔を有する円板状のガラス基板を複数枚重ねて保持する保持手段と、該保持手段を回転させる手段と、前記複数枚重ねられたガラス基板の外周端面部分に接触する研磨ブラシ又は研磨パッドと、該研磨ブラシ又は研磨パッドを回転させる手段と、前記複数枚重ねられたガラス基板の外周端面部分に研磨液を供給する研磨液供給手段とを少なくとも備えた研磨装置であって、前記複数枚重ねられた全てのガラス基板の外周端面部分に効果的に研磨液を供給しうる研磨液供給手段を設けたことを特徴とする研磨装置。
IPC (3件)：
B24B 55/02 ,  B24B 29/00 ,  G11B 5/84
FI (3件)：
B24B 55/02 A ,  B24B 29/00 D ,  G11B 5/84 Z
Fターム (17件)：
3C047FF01 ,  3C047FF09 ,  3C047GG03 ,  3C047GG15 ,  3C058AA06 ,  3C058AB04 ,  3C058AB08 ,  3C058AC04 ,  3C058CB01 ,  3C058CB05 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112GA04 ,  5D112GA09 ,  5D112GA10 ,  5D112GA11
引用特許：
審査官引用 (4件)
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