特許
J-GLOBAL ID：200903031515110095

塗布膜の乾燥方法および塗布膜の乾燥装置

発明者：
本多 充

本多 充 について

, 
磯野 仁志

磯野 仁志 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (3件)： 西教 圭一郎 ,  杉山 毅至 ,  廣瀬 峰太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-185222
公開番号（公開出願番号）：特開2006-007029
出願日： 2004年06月23日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】 基板に塗布された塗布膜を乾燥させるための装置の小形化および装置コストの削減を図るとともに、乾燥された塗布膜に関して平坦性の低下および平坦性のばらつきを抑えることができる乾燥方法および塗布膜の乾燥装置を提供する。【解決手段】 ステージ8によって基板2を保持し、プレート状ヒータ9によって、前記基板2に塗布されたインク膜3を、その上方から加熱し、これによってインク膜3を乾燥させる。しかもインク膜3の、乾燥のために加熱される被加熱領域26は、インク膜3の塗布領域22よりも小さい。すなわち、インク膜3を加熱するためのプレート状ヒータ9は、インク膜3の一部を加熱する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板に塗布された液体状の塗布膜を乾燥させる塗布膜の乾燥方法であって、 塗布膜を、その上方から加熱して乾燥させ、かつ、塗布膜の、乾燥のために加熱される被加熱領域は、塗布膜の塗布領域よりも小さいことを特徴とする塗布膜の乾燥方法。
IPC (4件)：
B05D 3/02 ,  B05C 9/14 ,  F26B 23/04 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
B05D3/02 Z ,  B05C9/14 ,  F26B23/04 C ,  H01L21/30 567
Fターム (27件)：
2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  3L113AA01 ,  3L113AB06 ,  3L113AC10 ,  3L113BA32 ,  3L113DA14 ,  3L113DA24 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB36Z ,  4D075BB37Z ,  4D075BB38Z ,  4D075BB91Z ,  4D075CA48 ,  4D075CB07 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA33 ,  4F042AA02 ,  4F042BA08 ,  4F042BA19 ,  4F042DB17 ,  5F046KA04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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