特許
J-GLOBAL ID：200903031862515720

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法

発明者：
名取 美智子

名取 美智子 について

, 
日高 敬浩

日高 敬浩 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について


代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-287292
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275831
出願日： 1999年10月07日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 光感度、解像度、密着性、アルカリ現像性、耐薬品性、めっき浴汚染性及び機械強度が特に優れる感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法並びにこのレジストパターンを有するプリント配線板の製造法の提供。【解決手段】 バインダーポリマー、分子内に重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、2,4,5-トリフェニルイミダゾール二量体、アリールグリシン化合物及びホウ素塩化合物並びにジアリールヨードニウム塩化合物及びビススルホニウム塩化合物を含有してなる感光性樹脂組成物、この組成物を、支持体上に塗布、乾燥してなる感光性エレメント、これを、保護フィルムを剥がしながら、回路形成用基板上に積層し、活性光線を照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去するレジストパターンの製造法並びに回路形成用基板をエッチング又はめっきすることを特徴とするプリント配線板の製造法。
請求項（抜粋）：
(A)バインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、(C)一般式(I)【化1】(式中、Z1、Z2及びZ3は各々独立にハロゲン原子、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜14のアリール基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、アリル基、炭素数1〜10のアルキルメルカプト基、炭素数1〜10のヒドロキシアルキル基、アルキル基の炭素数が1〜10のカルボキシアルキル基、アルキル基の炭素数が1〜10のアシル基、炭素数1〜10のアルコキシ基又は複素環を含む基を示し、s、t及びuは各々独立に0〜5の整数である)で表される2,4,5-トリフェニルイミダゾール二量体、(D)(d1)一般式(II)【化2】(式中、Z4は前記一般式(I)におけるZ1と同意義であり、vは0〜5の整数である)で表されるアリールグリシン化合物及び(d2)一般式(III)【化3】(式中、Z13、Z14、Z15、Z16、Z17、Z18、Z19及びZ20は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜14のアリール基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、アリル基、炭素数1〜10のアルキルメルカプト基、炭素数1〜10のヒドロキシアルキル基、アルキル基の炭素数が1〜10のカルボキシアルキル基、アルキル基の炭素数が1〜10のアシル基、炭素数1〜10のアルコキシ基又は複素環を含む基を示す)で表されるホウ素塩化合物から選ばれる少なくとも1つの化合物並びに(E)(e1)一般式(IV)【化4】(式中、X-は対アニオンを示し、Z5及びZ6は各々独立に前記一般式(I)におけるZ1と同意義であり、w及びxは各々独立に0〜5の整数である)で表されるジアリールヨードニウム塩化合物及び(e2)一般式(V)【化5】(式中、Y-は対アニオンを示し、Z7、Z8、Z9、Z10、Z11及びZ12は各々独立に前記一般式(I)におけるZ1と同意義であり、a、b、c及びdは各々独立に0〜5の整数であり、e及びfは各々独立に0〜4の整数である)で表されるビススルホニウム塩化合物から選ばれる少なくとも1つの化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/029 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18
FI (7件)：
G03F 7/029 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/06 H ,  H05K 3/18 D
引用特許：
審査官引用 (12件)
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