特許
J-GLOBAL ID：200903031889629787
活性酸素殺菌装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
半田 昌男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-069432
公開番号（公開出願番号）：特開2004-275330
出願日： 2003年03月14日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】処理室内のオゾン濃度を低く抑えて殺菌処理を行うことができる活性酸素殺菌装置を提供する。【解決手段】第一の紫外線発生ランプ40は、真空紫外域の紫外線を発生するものであり、第二の紫外線発生ランプ50は、遠紫外域の紫外線を発生するものである。これらのランプ40,50はチャンバー10内に設けられる。真空ポンプ70によりチャンバー10内の圧力を減圧状態にした後、酸素供給装置30から酸素を含むガスをチャンバー10内に供給すると共に第一の紫外線発生ランプ40及び第二の紫外線発生ランプ50を点灯する。これにより、チャンバー10内に活性酸素を発生させ、その発生させた活性酸素により被処理物を殺菌する。また、このとき、チャンバー10内に流入したガスやその発生した活性酸素等を、チャンバー10内のすべての部分に急速に拡散させることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理物を収容する処理室と、
前記処理室内に酸素を含むガスを供給する酸素供給手段と、
前記処理室内に設けられた、真空紫外域の紫外線を発生する第一の紫外線発生ランプと、
を備え、前記酸素供給手段から酸素を含むガスを前記処理室内に供給すると共に前記第一の紫外線発生ランプから紫外線を発生させることにより当該酸素に当該紫外線を吸収させて前記処理室内に活性酸素を発生させ、その発生させた活性酸素によって前記被処理物を殺菌することを特徴とする活性酸素殺菌装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (13件)：
4B021LP08
, 4B021LT03
, 4B021MC01
, 4B021MK13
, 4B021MP06
, 4B021MQ01
, 4C058AA12
, 4C058AA21
, 4C058CC01
, 4C058CC02
, 4C058DD06
, 4C058KK02
, 4C058KK21
