光転写装置及び方法及びマスク及びその製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：渡邉勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-122370
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021770
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】光の波長以下の微細な線幅の二次元的なパターンを、簡単な装置構成により、且つ経済的に転写が可能な光転写装置及び方法を提供する。【解決手段】導波路11と、該導波路11の一部に固定された近接場露光パターン12と、該導波路11に光線を供給する光源13,20とを備えた。

請求項（抜粋）：

導波路と、該導波路の一部に固定された近接場露光パターンと、該導波路に光線を供給する光源とを備えたことを特徴とする光転写装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 1/14 , G03F 7/20 502 , H01L 21/3065 , G21K 5/02

FI (7件)：

H01L 21/30 502 D , G03F 1/14 Z , G03F 7/20 502 , G21K 5/02 Z , H01L 21/30 509 , H01L 21/30 531 A , H01L 21/302 H

引用特許：

審査官引用 (8件)

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