電子ビーム描画方法及びその装置

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-363071
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173529
出願日： 1998年12月21日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】【課題】本発明は、パターン描画精度をキープしながらシステムの小型化・単純化を実現する。【解決手段】電子ビーム2を試料13面上に走査して描画を行う電子ビーム描画装置において、電子光学系の各構成要素として、静電式照明レンズ20、第1の静電式成形偏向器21、第2の静電式成形偏向器22、静電式縮小レンズ24、静電式主偏向対物レンズ25、静電式副偏向器28、静電式プリ主偏向器29、静電式プリ副偏向器30などの静電式の各レンズ及び偏向器から構成した。

請求項（抜粋）：

電子ビームを電子光学系によって少なくとも成形や偏向、縮小投影して試料上に照射し、この試料上に描画を行う電子ビーム描画方法において、前記電子光学系における少なくとも前記成形や前記縮小投影、前記偏向を行う各構成要素を静電式として、前記試料上に描画を行うことを特徴とする電子ビーム描画方法。

IPC (5件)：

H01J 37/305 , G03F 7/20 504 , H01J 37/12 , H01J 37/147 , H01L 21/027

FI (5件)：

H01J 37/305 B , G03F 7/20 504 , H01J 37/12 , H01J 37/147 C , H01L 21/30 541 B

Fターム (24件)：

2H097AA03 , 2H097BA01 , 2H097BB03 , 2H097CA16 , 2H097EA02 , 2H097KA28 , 2H097LA10 , 5C033GG02 , 5C033GG04 , 5C033GG05 , 5C034BB02 , 5C034BB04 , 5C034BB05 , 5C034BB07 , 5C034BB08 , 5C034BB10 , 5F056AA17 , 5F056CB02 , 5F056CB07 , 5F056CB14 , 5F056CC04 , 5F056EA04 , 5F056EA05 , 5F056EA06

引用特許：

出願人引用 (9件)

イオン注入方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-101924 出願人：株式会社日立製作所
荷電粒子ビーム露光装置の調整方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-024224 出願人：富士通株式会社
電子ビーム装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-251233 出願人：富士通株式会社

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審査官引用 (9件)

イオン注入方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-101924 出願人：株式会社日立製作所
荷電粒子ビーム露光装置の調整方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-024224 出願人：富士通株式会社
電子ビーム装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-251233 出願人：富士通株式会社

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