特許
J-GLOBAL ID：200903032344310313

フォトレジスト組成物

発明者：
藤 裕介

藤 裕介 について

, 
高田 佳幸

高田 佳幸 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-069001
公開番号（公開出願番号）：特開2008-268916
出願日： 2008年03月18日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：
【課題】解像性能が優れたフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】酸に不安定な基を側鎖に有するユニット(ア)を1種以上含有し、水酸基(ただし、カルボキシル基の-OHは水酸基とは見なさない。)を側鎖に有するユニット(イ)を1種以上含有し、ラクトン構造を側鎖に有するユニット(ウ)を1種以上を含有し、さらに側鎖にオキソアダマンタン構造を有するユニットを含有する樹脂(A)と酸発生剤とを含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸に不安定な基を側鎖に有するユニット(ア)を1種以上含有し、水酸基(ただし、カルボキシル基の-OHは水酸基とは見なさない。)を側鎖に有するユニット(イ)を1種以上含有し、ラクトン構造を側鎖に有するユニット(ウ)を1種以上を含有し、さらに式(Ia)または(Ib)で表されるユニットを含有する樹脂(A)と酸発生剤とを含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 220/28 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F220/28 ,  H01L21/30 502R
Fターム (26件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC53S ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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