特許
J-GLOBAL ID：200903032449982171
イマージョンリソグラフィー用ポリマー及びこれを含むフォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
荒船 博司
, 荒船 良男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-368436
公開番号（公開出願番号）：特開2006-336005
出願日： 2005年12月21日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】光酸発生剤がイマージョンリソグラフィー用液体に溶解されないようにすることができるイマージョンリソグラフィー用ポリマー、及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】下記式(1)で示される反復単位を含むイマージョンリソグラフィー用ポリマーを含むフォトレジスト組成物により形成されたフォトレジスト膜は、水溶性イマージョンリソグラフィー用液体に長時間接触させても光酸発生剤がイマージョンリソグラフィー用液体に溶解されないため露光レンズの汚染を防止する。(X1はアルキレン、硫黄又は酸素、Aは光酸発生基)【選択図】図3a
請求項（抜粋）：
下記式(1)で示される重合反復単位を含むことを特徴とする光酸発生ポリマー:
IPC (6件)：
C08F 32/08
, G03F 7/039
, G03F 7/004
, C08F 232/08
, C08F 220/06
, H01L 21/027
C08F32/08
, G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, C08F232/08
, C08F220/06
, H01L21/30 502R
2H025AA00
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC07
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CC03
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J100AJ02P
, 4J100AK32S
, 4J100AL03Q
, 4J100AR11P
, 4J100AR11Q
, 4J100AR11R
, 4J100BA03Q
, 4J100BA20P
, 4J100BA20Q
, 4J100BA56R
, 4J100BB18R
, 4J100BC66R
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100HE22
, 4J100JA38
