特許
J-GLOBAL ID：200903032477363100
電子ビーム露光システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (11件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 橋本 良郎
, 風間 鉄也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-548160
公開番号（公開出願番号）：特表2006-505124
出願日： 2003年10月30日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：
複数の電子ビームレット(5a、5b)を発生するためのビームレット発生装置と、電子ビームレットの強度を変調するための複数の変調器を備える、前記複数の電子ビームレットを受け取るための変調アレイと、各変調器を個々に制御するための前記変調アレイに接続されるコントローラと、各変調器の制御信号を個々に調整するように各変調器に動作的に接続されている調整器と、各々が前記変調アレイにより伝送される対応する個々のビームレットを300nmより小さな断面に焦点を合わせる、静電レンズ(7)のアレイを備えた収束電子光システムと、前記収束電子光システムの第1の収束面内で前記パターンが転写されるこれの露光面でターゲットを保持するためのターゲットホルダとを具備する、ターゲット(14)の表面にパターンを転写するための電子ビーム露光装置である。
請求項（抜粋）：
ターゲットの表面にパターンを転写するための電子ビーム露光装置であって、
複数の電子ビームレットを発生するためのビームレット発生装置と、
電子ビームレットの強度を変調するための複数の変調器を備え、前記複数の電子ビームレットを受けるための変調アレイと、
前記変調アレイに動作的に接続され、制御信号を使用して前記変調器を個々に制御するコントローラと、
各変調器に接続され、各変調器の前記制御信号を個々に調整する調整器と、
各々が、前記変調アレイにより伝送される対応した個々のビームレットを、300nmより小さな断面に収束させる、複数の静電レンズのアレイを備えた収束電子光システムと、
前記パターンが前記収束電子光システムの第1の収束面で転写される、これの露光面を備えたターゲットを保持するためのターゲットホルダとを、具備する、電子ビーム露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01J 37/305
H01L21/30 541W
, G03F7/20 521
, H01J37/305 B
5C034BB02
, 5C034BB03
, 5C034BB05
, 5F056AA07
, 5F056AA33
, 5F056CB08
, 5F056CC14
, 5F056EA03
, 5F056EA04
, 5F056EA05
