特許
J-GLOBAL ID：200903032934693439

有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

発明者：
伊藤 範人

伊藤 範人 について

, 
飯泉 安広

飯泉 安広 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-116745
公開番号（公開出願番号）：特開2007-287623
出願日： 2006年04月20日
公開日（公表日）： 2007年11月01日
要約：
【課題】本発明は、有機EL層のパターニングが容易であり、良好な濡れ性の変化が得られ、発光特性に優れる有機EL素子の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、電極層が形成された基板上に、撥液性官能基を有する材料を含有し、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化する電荷注入輸送層を形成する電荷注入輸送層形成工程と、基体上に少なくとも光触媒を含有する光触媒処理層が形成されている光触媒処理層基板を、電荷注入輸送層に対して、所定の間隙をおいて配置した後、パターン状にエネルギー照射することにより、電荷注入輸送層表面に濡れ性の変化した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、濡れ性変化パターン上に少なくとも発光層を含む有機EL層を形成する有機EL層形成工程とを有することを特徴とする有機EL素子の製造方法を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
電極層が形成された基板上に、撥液性官能基を有する材料を含有し、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化する電荷注入輸送層を形成する電荷注入輸送層形成工程と、 基体上に少なくとも光触媒を含有する光触媒処理層が形成されている光触媒処理層基板を、前記電荷注入輸送層に対して、エネルギー照射に伴う光触媒の作用が及び得る間隙をおいて配置した後、パターン状にエネルギー照射することにより、前記電荷注入輸送層表面に濡れ性の変化した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、 前記濡れ性変化パターン上に少なくとも発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス層を形成する有機エレクトロルミネッセンス層形成工程と を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
IPC (4件)：
H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/22 ,  H05B 33/02
FI (4件)：
H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 ,  H05B33/02
Fターム (14件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC01 ,  3K107CC45 ,  3K107DD18 ,  3K107DD58 ,  3K107DD71 ,  3K107DD78 ,  3K107DD91 ,  3K107GG01 ,  3K107GG06 ,  3K107GG11 ,  3K107GG22 ,  3K107GG24
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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