特許
J-GLOBAL ID：200903033116187621

投影光学系の収差量の測定方法

発明者：
松浦 誠司

松浦 誠司 について

, 
内山 貴之

内山 貴之 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-201982
公開番号（公開出願番号）：特開2000-283890
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：
【要約】【課題】 パターン線幅が0.2μm未満のような微細なパターンにおいても、両端線幅差から収差量を測定することができる投影光学系の収差量の測定方法を提供する。【解決手段】 ラインアンドスペース(LS)パターンを設けたマスクにより基板上のレジスト膜を露光し、この露光を複数の露光量で複数回繰り返して各露光量におけるLSパターンの両端のラインの線幅差を求める。そして、この両端のラインの線幅差とその露光量との関係から基準露光量(最適露光量)における両端線幅差を推定する。これにより、基準露光量における収差を求めることができる。
請求項（抜粋）：
ラインアンドスペースパターンを設けたマスクにより基板上のレジスト膜を露光する工程と、この露光工程を複数の露光量で複数回繰り返して各露光量における前記ラインアンドスペースパターンの両端のラインの線幅差を求める工程と、前記両端のラインの線幅差とその露光量との関係から基準露光量における両端線幅差を推定し前記基準露光量における収差を求める工程とを有することを特徴とする投影光学系の収差量の測定方法。
IPC (2件)：
G01M 11/02 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G01M 11/02 B ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 A
Fターム (7件)：
2G086HH06 ,  5F046BA03 ,  5F046DA13 ,  5F046EA03 ,  5F046EA09 ,  5F046EB01 ,  5F046EC05
引用特許：
出願人引用 (5件)
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