特許
J-GLOBAL ID：200903033316408983

フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法

発明者：
金子 英雄

金子 英雄 について

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稲月 判臣

稲月 判臣 について

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塚本 哲史

塚本 哲史 について

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茂木 均之

茂木 均之 について

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奥村 勝弥

奥村 勝弥 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-354602
公開番号（公開出願番号）：特開2004-199035
出願日： 2003年10月15日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】 反りが小さく、耐薬品性が高い高品質なフォトマスクブランク及びフォトマスクを提供する。【解決手段】 基板上に少なくとも一層の膜を設けてなるフォトマスクブランクの製造方法において、基板上に膜を形成した後に、閃光ランプによる光を照射することを特徴とする。又、この方法で製造されたフォトマスクブランクの膜上にフォトリソグラフィ法にてレジストパターンを形成した後、エッチング法にて膜のレジスト非被覆部分を除去し、次いでレジストを除去することを特徴とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基板上に少なくとも一層の膜を設けてなるフォトマスクブランクの製造方法であって、基板上に膜を形成した後に、閃光ランプによる光を照射することを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。
IPC (2件)：
G03F1/08 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F1/08 A ,  H01L21/30 502P
Fターム (3件)：
2H095BB03 ,  2H095BB25 ,  2H095BC05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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