特許
J-GLOBAL ID：200903033341312923

プラズマ処理システムのアーク検出装置

発明者：
田中 良平

田中 良平 について


出願人/特許権者：
株式会社ダイヘン

株式会社ダイヘン について


代理人 (4件)： 吉田 稔 ,  田中 達也 ,  仙波 司 ,  古澤 寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-345650
公開番号（公開出願番号）：特開2007-149596
出願日： 2005年11月30日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】プラズマ処理装置において発生するソフトアークの発生を確実に検出することのできる、プラズマ処理システムのアーク検出装置を提供する。【解決手段】本願発明のプラズマ処理システムのアーク検出装置は、高周波電力を発生する高周波電源装置1と、高周波電源装置1から供給される高周波電力によりプラズマを発生させて被加工物Bに所定の加工処理を行うプラズマ処理装置4とを備えるものであって、プラズマ処理装置4のプラズマ処理中に、プラズマ処理装置4からの反射電力の変化を示す情報を検出する検出し、この反射電力の変化に関する情報の変化パターンに基づいて、プラズマ処理装置4における被加工物の加工品質に悪影響を与える微小なアークの発生を検出するアーク検出部17を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
高周波電力を発生する高周波電源装置と、前記高周波電源装置から供給される高周波電力によりプラズマを発生させて被加工物に所定の加工処理を行うプラズマ処理手段とを備えるプラズマ処理システムのアーク検出装置であって、 前記プラズマ処理手段のプラズマ処理中に、当該プラズマ処理手段からの反射電力の変化を示す情報を検出する検出手段と、 前記検出手段により検出される前記反射電力の変化に関する情報の変化パターンに基づいて、前記プラズマ処理手段における前記被加工物の加工品質に悪影響を与える微小なアークの発生を検出するアーク検出手段と、 を備えたことを特徴とする、プラズマ処理システムのアーク検出装置。
IPC (3件)：
H05H 1/00 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/306
FI (3件)：
H05H1/00 A ,  H05H1/46 R ,  H01L21/302 101B
Fターム (3件)：
5F004BA04 ,  5F004CA03 ,  5F004CB05
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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