特許
J-GLOBAL ID：200903098326255896

プラズマ処理装置

発明者：
石橋 清隆

石橋 清隆 について

, 
田 才忠

田 才忠 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-044276
公開番号（公開出願番号）：特開2005-277397
出願日： 2005年02月21日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】 プラズマ処理装置において,異常放電等のプラズマ異常の際に発生する電磁波を検出するにあたり,処理容器の壁体を薄くしたり,壁体を貫通する孔の大きさや長さを変えることなく,検出感度を改善する。【解決手段】 処理容器の側壁5には,貫通した孔40が形成されている。孔40には,誘電体からなる窓部材41が気密に設けられ,挿入部41bが孔40内を充填している。孔40内が誘電体によって充填されているので,孔40の大きさや長さを変えることなく,処理容器内で発生した異常放電の際の電磁波のピックアップアンテナ51への伝播率は向上し,検出感度が改善される。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
処理容器内の基板に対してプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって, 少なくともその一部が処理容器内の空間に面する誘電体と, 前記処理容器内のプラズマの異常時に発生する電磁波を,前記誘電体を介して受信するピックアップアンテナを有する検出装置と, を有することを特徴とする,プラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L21/3065 ,  C23C16/511 ,  C23C16/52 ,  H01L21/31 ,  H05H1/00
FI (5件)：
H01L21/302 103 ,  C23C16/511 ,  C23C16/52 ,  H01L21/31 C ,  H05H1/00 A
Fターム (21件)：
4K030FA01 ,  4K030HA17 ,  4K030KA14 ,  5F004BB14 ,  5F004BD04 ,  5F004CB05 ,  5F004DA00 ,  5F004DA04 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB02 ,  5F004DB10 ,  5F045AA09 ,  5F045AB39 ,  5F045AC02 ,  5F045AC16 ,  5F045BB20 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045GB04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
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