特許
J-GLOBAL ID:200903033409565647
エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-256852
公開番号(公開出願番号):特開2009-087781
出願日: 2007年09月28日
公開日(公表日): 2009年04月23日
要約:
【課題】本発明は、量子ドットを含有する発光層を容易にパターニングすることが可能なEL素子の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、第1電極層が形成された基板上に、光触媒を含有し、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成する濡れ性変化層形成工程と、上記濡れ性変化層にパターン状にエネルギー照射することにより、上記濡れ性変化層表面に親液性領域および撥液性領域からなる濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、上記親液性領域上に、周囲に配位子が配置された量子ドットを含有する発光層形成用塗工液を塗布して、発光層を形成する発光層形成工程とを有することを特徴とするEL素子の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1電極層が形成された基板上に、光触媒を含有し、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成する濡れ性変化層形成工程と、
前記濡れ性変化層にパターン状にエネルギー照射することにより、前記濡れ性変化層表面に親液性領域および撥液性領域からなる濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、
前記親液性領域上に、周囲に配位子が配置された量子ドットを含有する発光層形成用塗工液を塗布して、発光層を形成する発光層形成工程と
を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (10件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC45
, 3K107DD53
, 3K107DD58
, 3K107DD70
, 3K107GG06
, 3K107GG23
, 3K107GG24
, 3K107GG28
引用特許:
出願人引用 (8件)
-
特許第3601716号公報
-
特許第3646510号公報
-
EL素子とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-070493
出願人:大日本印刷株式会社
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