薄膜レーザ装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：草野卓 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-054186
公開番号（公開出願番号）：特開2002-261359
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月13日
要約：

【要約】【課題】 1. 3〜1. 5μmの光波長帯域の光通信において使用されるメインテナンスフリーの耐環境性に優れた超小型の薄膜レーザ装置を提供する。【解決手段】透光性基体1の表面に、誘電体多層膜Aより成る第1のミラー層を成膜形成し、第1のミラー層の表面にレーザ利得を有する活性イオンを発生するレーザ利得媒質層Cを成膜形成し、レーザ利得媒質層Cの表面に誘電体多層膜Bより成る第2のミラー層を成膜形成した薄膜レーザ装置。

請求項（抜粋）：

透光性基体の表面に、誘電体多層膜Aより成る第1のミラー層を成膜形成し、第1のミラー層の表面にレーザ利得を有する活性イオンを発生するレーザ利得媒質層Cを成膜形成し、レーザ利得媒質層Cの表面に誘電体多層膜Bより成る第2のミラー層を成膜形成したことを特徴とする薄膜レーザ装置。

IPC (2件)：

H01S 3/08 , H01S 3/23

FI (2件)：

H01S 3/08 , H01S 3/23

Fターム (10件)：

5F072AB07 , 5F072AB08 , 5F072AB09 , 5F072AK07 , 5F072JJ01 , 5F072JJ09 , 5F072JJ20 , 5F072KK06 , 5F072KK30 , 5F072YY15

引用特許：

審査官引用 (4件)

面型発光素子及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-126715 出願人：富士ゼロックス株式会社
微小レーザー
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-229206 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
CaF2:Ndレーザに対する光源としての多孔性シリコンを含む微小空胴構造および該光源の配備方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-243282 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド

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