特許
J-GLOBAL ID：200903033454684770
リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法およびそれにより製造された装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-369012
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234287
出願日： 2002年11月15日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：
【要約】【課題】 リソグラフィ投影装置で使う光学要素を不安定な材料を使わずに効率的且つ効果的にクリーニングする方法を提供すること。【解決手段】 リソグラフィ投影装置で使う光学要素3が入っているスペース2にガス供給源4から分子酸素を少量含むパージガスを供給する。マスクパターン投影用の線源LAからの、またはパージ専用線源7からのUV放射線ビームをこの光学要素に照射するので、この放射線が酸素を分解して酸素ラジカルを作り、それらが非常に効果的に光学要素をクリーニングする。上記パージガスが含む分子酸素の分圧が1×10-4Paから1Paであれば、十分なクリーニングを短時間に行うことができる。この方法は、オゾンのような不安定な材料を使わないのでパージガス準備の余分な作業がなく、基板の露出と同時に光学要素をクリーニングでき、従って光学要素をリソグラフィ装置から取外す必要もない。
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投影装置で:波長250nm以下の電磁放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA、IL);所望のパターンに従ってこの投影ビーム(PB)をパターン化するのに役立つパターニング手段(MA)を支持するための支持構造体(MT);基板(W)を保持するための基板テーブル(WT);およびこのパターン化したビームをこの基板(W)の目標部分(C)上に投影するための投影システム(PL);および上記装置の中のスペース(2)にパージガスを供給するためのガス供給源(4)を含み、上記スペース(2)がこの投影ビーム(PB)と関係するように配置した光学要素(3)を含む投影装置に於いて、上記パージガスが分子酸素を1×10-4Paから1Paまでの分圧で含む装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G02B 17/00
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 503
G02B 17/00 Z
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 503
, H01L 21/30 503 G
, H01L 21/30 516 F
2H087KA21
, 2H087NA04
, 2H087TA01
, 2H087TA03
, 2H097BA02
, 2H097BA04
, 2H097CA13
, 2H097CA15
, 2H097LA10
, 5F046AA22
, 5F046AA28
, 5F046BA03
, 5F046CA07
, 5F046DA11
, 5F046DA27
, 5F046DA30
, 5F046DB03
, 5F046DB14
